Yarı İletken Dağlama Odaları için Düşük Gaz Çıkışlı Silikon O-Ringler

Endüstri ve Uygulama Genel Bakışı

Yarı iletken plazma aşındırma ve biriktirme araçları, hazne kapıları, gaz girişleri, izleme pencereleri ve elektrot tertibatlarında hassas vakum sızdırmazlığına dayanır. Bu ortamlarda sızdırmazlık malzemesi reaktif plazmalara, halojen gazlarına, yüksek sıcaklığa ve derin vakuma maruz kalır. Elastomerin saldığı bilinen uçucu organik bileşikler - gaz salınımı olarak bilinir - waferler veya optikler üzerinde yoğunlaşabilir ve verimi doğrudan azaltan kusurlara neden olabilir. Bu nedenle sızdırmazlık seçimi, bir emtia satın alımı değil, kritik bir mühendislik kararıdır.

Dongguan Yunze Silicone Products Co., Ltd., yarı iletken ekipman üreticilerine ve proses mühendislerine düşük gaz salınımlı, yüksek saflıkta silikon O-ringleri ve özel sızdırmazlık elemanları tedarik etmektedir.

Mühendislik Zorluğu ve Sorun Noktaları

Bir wafer fabrikası ekipmanı entegratörü, aşındırma haznesi kapısındaki ithal sızdırmazlık elemanlarını değiştirmek zorunda kaldı. Saha verileri, verim kaybının sızdırmazlık elemanı yaşı ile ilişkili olduğunu gösterdi. Mevcut parçalar şunlara neden oluyordu:

• Gaz salınımı kirliliği: uçucu siloksanlar hazne yüzeylerinde ve waferlerde yoğunlaşarak kusur yoğunluğunu artırıyordu.
• Kimyasal saldırı: flor ve klor bazlı plazma kimyasallarına maruz kaldığında sızdırmazlık elemanları şişiyor ve çatlıyordu.
• Uzun teslim süreleri: ithal düşük gaz salınımlı sızdırmazlık elemanları 8-10 hafta sürüyordu, bu da alet bakımını yavaşlatıyordu.
• Tutarsız kalite: parti-parti sertlik ve boyutsal varyasyonlar sızdırmazlık elemanı güvenilirliğini etkiliyordu.

Yunze Silikon Özel Çözümü ve Malzeme Seçimi

Yunze, minimum uçucu salınım için tasarlanmış, sonradan kürlenmiş, yüksek saflıkta bir silikon bileşiği geliştirdi ve ardından bunu müşterinin plazma ve termal profiline karşı doğruladı.

• Uçucu kalıntıları gidermek için çok aşamalı son kürlemeye sahip platin kürlü silikon.
• Düşük gaz salınımı, kontrollü Toplam Kütle Kaybı (TML) ve Toplanan Uçucu Yoğunlaşabilir Malzemeler (CVCM).
• Güvenilir vakum sızdırmazlığı için 200 °C'de 22 saat boyunca %15'in altında sıkıştırma seti.
• Parçacık ve iyonik kirliliği kontrol etmek için temiz oda kalıplama ve elleçleme.
• Standart olmayan kapı ve port oluklarına uyan özel kesitler ve boyutlar.

Teknik Özellikler

Nicel Performans Sonuçları ve Faydaları

• Sızdırmazlık gaz salınımına bağlı wafer kusur yoğunluğu, değişimden sonra %38 azaldı.
• Sızdırmazlık servis aralığı 3 aydan 6 aya çıkarıldı - 2 kat iyileşme.
• Teslim süresi 8-10 haftadan (ithal) tekrar siparişler için 2-3 haftaya düştü.
• Parti-parti sertlik varyasyonu, tutarlı sızdırmazlık için ± 3 Shore A içinde tutuldu.
• Yerel tedarik, stok tamponunu ve toplam sahip olma maliyetini azalttı.

Teknik SSS

S: Yarı iletken sızdırmazlık elemanı için düşük gaz salınımı ne anlama gelir?
C: Elastomerin vakum ve ısı altında çok az uçucu malzeme saldığı anlamına gelir, bu nedenle waferler ve hazne yüzeyleri üzerinde daha az kirletici yoğunlaşır. Parçayı nitelendirebilmeniz için TML ve CVCM değerlerini bildiriyoruz.

S: Silikon plazma aşındırma kimyasına dayanabilir mi?
C: Silikon birçok hazne konumunda iyi performans gösterir; en agresif halojen plazmaları için özel bir bileşik veya bir perfloroelastomer seçeneği öneririz. Gaz karışımınızı paylaşın, Yunze en iyi malzemeyi önerecektir.

S: Bu O-ringleri temiz odada mı kalıplıyorsunuz?
C: Evet. Düşük gaz salınımlı sızdırmazlık elemanları, parçacık ve iyonik kirliliği sınırlamak için kontrollü bir ortamda kalıplanır ve elleçlenir, parti izlenebilirliği ile birlikte.

Mühendislik Danışmanlığı ve Numune Talebi

Hazneniz için nitelikli bir sızdırmazlık elemanı ile wafer veriminizi koruyun. Oluk boyutlarınızı, gaz kimyanızı ve vakum spesifikasyonunuzu Dongguan Yunze Silicone Products Co., Ltd.'ye gönderin, mühendislerimiz düşük gaz salınımlı bir bileşik önerecek ve nitelendirme için numuneler sağlayacaktır.